支持PSCC+64位版本，支持PS 2020
支持独立版使用
系统要求：macOS 10.12 或更高版本（支持macOS 10.15）
从头到尾将其蒙版只需几分钟。
手动创建复杂的选择并对其进行完善几乎总是比预期花费更长的时间。认识Topaz Mask AI。借助我们直观的机器学习技术和trimap技术，Mask AI可让您在创纪录的时间内创建棘手的蒙版。
一直以来，用户对于极高质量的口罩的较少输入一直是摄影师的梦想，现在您可以使用Mask AI来实现。
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